Дата и время

Ионно-плазменные установки по обработке листового стекла: серия "ОПАЛ"


Предназначена для нанесения многослойных низкоэмиссионных покрытий со структурой типа "оксид - защитная пленка - серебро - защитная пленка - оксид" и покрытий, поглощающих или отражающих свет, т.е. способна наносить зеркальные и тонирующие покрытия. В качестве оксидной пленки могут быть использованы оксиды металлов типа SnO2, TiO2 и т.д.

Slide 1
Схематичный вид рабочей линии установки "ОПАЛ-3Про"
Slide 2
Схематичный вид рабочей линии установки "ОПАЛ-5"
Slide 3
установки "ОПАЛ-3Про" на рабочем месте


Основные технологические особенности установки перечислены ниже:



Установки серии «Опал» имеют следующую структуру:
шлюзовая камера щелевой вакуумный затвор камера выравнивания скоростей камера выравнивания скоростей откачная камера рабочая камера (ионный источник) откачная камера рабочая камера (сдвоенный магнетрон) откачная камера рабочая камера (сдвоенный магнетрон) откачная камера рабочая камера (сдвоенный магнетрон) откачная камера рабочая камера с тремя планарными магнетронами откачная камера рабочая камера (сдвоенный магнетрон) откачная камера рабочая камера (сдвоенный магнетрон) откачная камера рабочая камера (сдвоенный магнетрон) камера выравнивания скоростей камера выравнивания скоростей щелевой вакуумный затвор выходная шлюзовая камера



Технические характеристики установки "Опал3Про"


Параметр Величина
Максимальный размер обрабатываемого стекла 1605 х 3005 мм
Число планарных магнетронов 3 шт.
Число дуальных магнетронов 6 шт.
Число ионных источников 2 шт.
Скорость движения каретки со стеклом, мм/с 2-80 мм/с
Максимальное остаточное давление газа 5 * 10-3 Па
Длина магнетронов 1950 мм
Предельная неравномерность осаждённой плёнки по длине магнетрона (+/-) 2%
Пример структуры наносимого теплоотражающего покрытия TiO2 (или SnO2) –[Ni(80%),Cr(20%)]– Ag –[Ni(80%),Cr(20%)] – TiO2 (или SnO2)
Производительность при осаждении теплоотражающих покрытий 50 м2/час
Производительность при осаждении тонирующих покрытий, 60 м2/час
Расход рабочего газа, л/час 60
Напряжение питания ионного источника 1 – 3,5 кВ
Ток ионного источника 0,1 – 2,0 А
Максимальная потребляемая мощность
200 кВт
Максимальная мощность магнетронов
25 кВт
Занимаемая площадь 250 м2
Установка "Опал-3Про" введена в эксплуатацию в 2006г.